目录
HiPIMS电源的设计基础及研究进展巩春志;吴厚朴;胡天时;田修波;1-9
高离化磁控溅射技术与应用专辑序言吴忠振;2
双极高功率脉冲磁控溅射技术薄膜制备研究进展朱祥瑞;韩明月;冯蓬勃;孙玉强;李刘合;10-22
高功率脉冲磁控溅射仿真技术研究进展崔岁寒;郭宇翔;陈秋皓;吴忠振;23-41
HiPIMS的放电特性及其对薄膜结构和性能的调控李坤;高岗;杨磊;夏菲;孙春强;滕祥青;张宇民;朱嘉琦;42-55
基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展丁啸云;张津;田修波;吴忠振;连勇;56-69
高功率脉冲磁控溅射制备金属氮化物涂层魏永强;顾艳阳;蒋志强;70-92
HiPIMS沉积光电薄膜研究进展:放电特性和参数调控张海宝;刘洋;陈强;93-104
高能脉冲磁控溅射低温制备晶态薄膜的研究进展白雪冰;蔡群;张旭海;105-115
高离化磁控溅射技术及其工业应用马旻昱;刘亮亮;李体军;李熙腾;崔岁寒;吴忠振;116-144
高引燃脉冲新HiPIMS模式对TiN/CrN多层膜结构和性能的影响高凯晨;巩春志;徐啸尘;田修波;145-154
电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备李春伟;田修波;155-162
筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为崔岁寒;李体军;李蕊;吴忠灿;马正永;吴忠振;163-171
微米压痕测量TiAlN薄膜断裂韧性的数字孪生方法蒋智韬;高剑英;雷明凯;172-183
高功率脉冲反应磁控溅射CrNx涂层的放电特性与组分结构祁宇星;周广学;左潇;都宏;陈仁德;汪爱英;184-191
脉冲频率对HiPIMS制备TiN薄膜组织和力学性能的影响高海洋;张斌;魏殿忠;但敏;金凡亚;192-199
基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响张辉;巩春志;王晓波;张炜鑫;田修波;200-209
高功率脉冲磁控溅射管内壁沉积Cr薄膜结构及性能吴厚朴;田修波;郑林林;巩春志;张辉;210-216
高功率脉冲磁控溅射制备纳米复合高熵碳化物（CuNiTiNbCr）Cx薄膜李延涛;经佩佩;曾小康;刘茂;姜欣;冷永祥;217-227
HiPIMS制备TiB2、TiBN涂层及其等离子体性质吴正涛;叶榕礼;李海庆;王启民;228-235
HiPIMS复合热处理制备高纯Ti2AlC MAX相涂层周定伟;李忠昌;王振玉;马冠水;柯培玲;胡晓君;汪爱英;236-245
HiPIMS室温溅射晶态氧化铝薄膜的粒子能量调控高方圆;许亿;李国栋;李光;夏原;246-253
高功率脉冲磁控溅射TiNb靶材等离子特性及其对薄膜性能影响陈畅子;李延涛;曾小康;马东林;姜全新;冷永祥;254-263
细长管内表面镀Cu过程中的空心阴极辉光电高凯晨;刘仕远;巩春志;田修波;264-271
脉冲偏压对316L不锈钢表面类金刚石薄膜腐蚀行为影响陈东旭;郭阳阳;祁继隆;周艳文;272-278